產品介紹：PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

產品介紹：卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置

產品介紹：該產品是由射頻電源、氣體質子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成，適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現TEOS...

產品描述：KJ-T1200PECVD是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）的管式爐系統，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空...

產品介紹：等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜技術生長的一種系的制備技術

產品介紹：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統、質量流量計氣路系統、等離子電源系統組成

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統，由KJ-T1200單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成

產品用途：PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

產品介紹:六通道高真空PECVD系統是一款由1200度管式爐，等離子射頻電源，分子泵高真空，六通道氣路等組成的等離子化學氣相沉積系統，加熱腔體采用氧化鋁纖維制品...

產品介紹：滑道式PECVD系統由PT-1200T管式爐加熱系統、真空系統、質量流量計供氣系統、等離子射頻電源系統組成

產品介紹：該設備是一款帶有預熱系統的滑動PECVD系統